CRT是英文（Cathode Ray Tube）的缩写，译作阴极射线管。作为成像器件，它是实现早、应用为广泛的一种显示技术。这种投影机可把输入信号源分解成R（红）、G（绿）、B（蓝）三基色，它们控制电子束分别打在RGB三个CRT管的荧光屏上，荧光粉在高压作用下发光，在荧光屏上重现一个较亮的图像，经过光学系统放大、会聚，在大屏幕上显示出彩色图像。光学系统与CRT管组成投影管，通常所说的三枪投影机就是由三个投影管组成的投影机。由于使用内光源，也叫主动式投影方式。CRT技术成熟，显示的图像色彩丰富，还原性好，具有丰富的几何失真调整能力；但其重要技术指标图像分辨率与亮度相互制约，直接影响CRT投影机的亮度值，其亮度值始终徘徊在300lm以下。另外CRT投影机操作复杂，特别是会聚调整繁琐，机身体积大，只适合安装于环境光较弱、相对固定的场所，不宜搬动。
有两个CRT投影机的特有性能指标值得注意：
个是会聚性能，会聚是指红绿蓝三种颜色在屏幕上的重合。对CRT投影机来说，会聚控制性显得格外重要，因为它有RGB三种CRT管，平行安装在支架上，要想做到图像完全会聚，必须对图像各种失真均能校正。机器位置的变化，会聚也要重新调整，因此对会聚的要求，一是全功能，二是方便快捷。会聚有静态会聚和动态会聚，其中动态会聚有倾斜，弓形，幅度，线性，梯形，枕形等功能，每一种功能均可在水平和垂直两个方向上进行调整。除此之外，还可进行非线性平衡，梯形平衡，枕形平衡的调整。
另外一个指标就是CRT管的聚焦性能。我们知道，图形的小单元是像素。像素越小，图形分辨率越高。在CRT管中，小像素是由聚焦性能决定的，所谓可寻址分辨率，即是指小像素的数目。CRT管的聚焦机制有静电聚焦、磁聚焦和电磁复合聚焦三种，其中以电磁复合聚焦较为先进，其优点是聚焦性能好，尤其是高亮度条件下会散焦，且聚焦精度高，可以进行分区域聚焦，边缘聚焦，四角聚焦，从而可以做到画面上每一点都很清晰。
它的成像器件是液晶板，也是一种被动式的投影方式。利用外光源金属卤素灯，通过分光镜形成RGB三束光，分别透射过RGB三块液晶板；信号源经过模数转换，调制加到液晶板上，控制液晶单元的开启、闭合，从而控制光路的通断，再经镜子合光，由光学镜头放大，显示在大屏幕上。市场上常见的液晶投影机比较流行单片设计，这种投影机体积小，重量轻，操作、携带极其方便，价格也比较低廉。但其光源寿命短，色彩不很均匀，分辨率较低，分辨率为1024×768，多用于临时演示或小型会议。这种投影机虽然也实现了数字化调制信号，但液晶本身的物理特性，决定了它的响应速度慢，随着时间的推移，性能有所下降。
自主创新的高显光学屏幕技术独创的具有不用物理缝隙的高显幕技术，克服了传统屏幕易变形、反光强烈、视角差等一系列缺点，具有以下优点：
● 不变形，耐冲击。大屏幕以高稳定支架悬挂，不受温差影响，温度敏感性弱，可以稳持平整不变形；
● 视角宽，画质细腻；
● 图像显示高对比度，能更好体现图像的深度和层次感；
● 几乎不受环境光的影响，表面吸光能力强，不反光无重影；
● 单个屏幕显示尺寸可以任意大小的规格选择。
分类
随着科技发展以及显示的要求，大屏幕系统在各行各业的应用也越来越多，对于大屏幕系统来说，显示技术主要有以下几种：
1、CRT显示技术。 采用阴极射线管（CRT）技术的大屏幕投影显示屏，这种技术也是早采用的大屏幕投影机技术。CRT投影显示技术的显示核心和亮度发光均由CRT完成，由于CRT投影技术的亮度和分辨率的矛盾，限制了其继续发展的机会。并且CRT投影技术要分别用三个投影枪（R、G、B）分别显示然后汇聚，使得投影的安装调试非常困难，CRT投影技术基本上被LCD、DLP以及新型的LCOS等技术所替代。
2、LCD显示技术。 此技术是自90年代起，由日商主导的投影技术，其技术的发展也越来越成熟，并日趋完善，从单晶硅静态液晶发展到多晶硅动态液晶，其技术有了长足的发展，主要用于桌面投影机、商务投影、以及小量的大屏幕投影拼接显示墙应用等。
3、DLP纯数字化显示技术。 DLP（数码光处理）是在投影和显示讯息方面的一种革命性技术，根据美国Texas Instruments（TI）公司开发的数码微镜无件（DMD）设计而成，创造出显示数码视像讯息的后一环，它采用发射光成像原理，实现图像处理全数字化，具有稳定可靠、维护方便、亮度高、显示图像平滑、细腻、的特点，DLP投影技术广泛用于桌面投影机、商务投影机、电影院放映，尤其在大屏幕投影拼接显示领域，它一直处理领导地位。
4、LCOS显示技术。 它是近几年来在LCD技术基础上发展的一种新的显示技术，LCOS的优点是解析度可以很高，在携带型资讯设备的应用上，此优点比较突出。缺点是模组的制程较为繁琐，各生产阶段良率控制不易，成本难以有竞争力。只能停留在需要高解析度的特定用途中，如液晶投影器。
5、GLV显示技术。 GLV技术的原理和德仪（TI）开发的数字微镜装置（DMD）晶片有些类似，也是以微机电原理（Micro-Electromechanical System；MEM）为基础，靠着光线反射来决定影像的显现与否；而GLV的光线反射元件，则是由一条条带状的反射面所组成，依据基板上提供的电压，进行极小幅度的上下移动，决定光线的反射与偏折，再加上其反射装置的超高切换速度，以达成影像的再生。本技术尚处于研发阶段，没有形成产业。
